隨著我國(guó)知識(shí)體系不斷地被完善，越來(lái)越多的朋友也開(kāi)始注重商標(biāo)專利的戰(zhàn)略布局、經(jīng)營(yíng)管理以及維權(quán)保護(hù)。畢竟專利技術(shù)是企業(yè)參與市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)、謀求長(zhǎng)期發(fā)展、形成競(jìng)爭(zhēng)優(yōu)勢(shì)的利器。但我們也應(yīng)看到，不少人對(duì)專利申請(qǐng)仍存在著諸多誤區(qū)，下面廣州專利申請(qǐng)小編就為大家說(shuō)一說(shuō)專利申請(qǐng)的雷區(qū)。
誤區(qū)一、產(chǎn)品投入大規(guī)模生產(chǎn)后才申請(qǐng)專利
誤區(qū)一、產(chǎn)品投入大規(guī)模生產(chǎn)后才申請(qǐng)專利
很多企業(yè)都有這樣的想法：技術(shù)方案還未投入生產(chǎn)，也沒(méi)有產(chǎn)品問(wèn)世，此時(shí)申請(qǐng)專利為時(shí)過(guò)早，等產(chǎn)品大規(guī)模投入生產(chǎn)后再申請(qǐng)專利更合適。但其實(shí)專利申請(qǐng)的基礎(chǔ)不應(yīng)該是已經(jīng)在市場(chǎng)上存在的產(chǎn)品，也不一定是已經(jīng)成型的產(chǎn)品。只要有了切實(shí)可行的想法，就可以著手專利申請(qǐng)文件的撰寫(xiě)了。
誤區(qū)二、專利產(chǎn)品的改進(jìn)不需再申請(qǐng)專利
有部分發(fā)明人認(rèn)為申請(qǐng)了一項(xiàng)專利后，就可“高枕無(wú)憂”，從而忽視了后期的繼續(xù)研發(fā)工作，即使開(kāi)發(fā)出了新產(chǎn)品或有了新改進(jìn)，也不再申請(qǐng)專利。這種錯(cuò)誤認(rèn)識(shí)的后果不異于未申請(qǐng)專利。因?yàn)楫?dāng)他人對(duì)該產(chǎn)品有了改進(jìn)并申請(qǐng)專利，反過(guò)來(lái)就限制了原專利權(quán)人產(chǎn)品的更新?lián)Q代，這就會(huì)導(dǎo)致企業(yè)在不經(jīng)意間反而變成侵權(quán)方。
誤區(qū)三、技術(shù)方案交待不清楚
很多企業(yè)的發(fā)明人提交的技術(shù)交底書(shū)非常簡(jiǎn)單，有的甚至只有幾句話，技術(shù)方案完全沒(méi)有交待清楚，這給專利代理人制作正式專利申請(qǐng)文件帶來(lái)很大困難。專利代理人在要求發(fā)明人提供更多的技術(shù)方案時(shí)，他們會(huì)以技術(shù)保密為由回避，表明這些發(fā)明人沒(méi)有把握好保密與公開(kāi)的度。他們只是一味要求保密，害怕多透露技術(shù)信息，而恰恰忽視了公開(kāi)不充分的問(wèn)題。
誤區(qū)四、先發(fā)表論文或成果鑒定再申請(qǐng)專利
有些發(fā)明人取得研究成果后急于發(fā)表文章或成果鑒定，而沒(méi)有想到先申請(qǐng)專利保護(hù)。發(fā)表文章或成果鑒定不可避免地要公開(kāi)技術(shù)內(nèi)容，會(huì)導(dǎo)致專利申請(qǐng)失去新穎性而得不到保護(hù)。
誤區(qū)五、一個(gè)產(chǎn)品僅僅申請(qǐng)一個(gè)專利
有的申請(qǐng)人或者發(fā)明人認(rèn)為，一個(gè)產(chǎn)品只需要申請(qǐng)一個(gè)專利即可，要么是發(fā)明專利，要么是外觀專利或者實(shí)用新型專利。這其實(shí)是對(duì)專利有誤解所致。專利分為發(fā)明專利、實(shí)用新型和外觀專利三種，保護(hù)的側(cè)重點(diǎn)并不一樣。
發(fā)明是指對(duì)產(chǎn)品、方法或者其改進(jìn)所提出的新的技術(shù)方案，一般需要兩年左右獲得授權(quán)。實(shí)用新型是指對(duì)產(chǎn)品的形狀、構(gòu)造或者其結(jié)合所提出的適于實(shí)用的新的技術(shù)方案，一般8個(gè)月左右獲得授權(quán)。
外觀設(shè)計(jì)是指對(duì)產(chǎn)品的形狀、圖案或者其結(jié)合以及色彩與形狀、圖案的結(jié)合所作出的富有美感并適于工業(yè)應(yīng)用的新設(shè)計(jì)，一般3個(gè)月左右獲得授權(quán)。同一個(gè)產(chǎn)品，完全可以申請(qǐng)多個(gè)專利，產(chǎn)品外形、結(jié)構(gòu)或者工藝方案如有不同，具有足夠的創(chuàng)造性和新穎性，就能同時(shí)申請(qǐng)多類型或者多個(gè)專利，從不同角度獲得授權(quán)保護(hù)。
誤區(qū)六、專利申請(qǐng)前不做任何檢索
有些發(fā)明人提交的專利申請(qǐng)文件沒(méi)有做查新檢索，無(wú)法確定技術(shù)方案的新穎性，根本不知道其技術(shù)方案是否公開(kāi)過(guò)，授權(quán)前景岌岌可危。同時(shí)，專利質(zhì)量和權(quán)利要求的范圍，也無(wú)法得到保障，專利新申請(qǐng)的價(jià)值也會(huì)大打折扣。因此在專利新申請(qǐng)之前，一定要對(duì)技術(shù)方案進(jìn)行查新檢索，不做任何檢索就直接提交申請(qǐng)，只是浪費(fèi)時(shí)間、金錢和精力。
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